日本ゼオンは５月12日、水島工場においてＧＰＩプラントに新たな設備を追加し、能力増強を図る投資を決定したと発表した。これにより、同社のＣ５事業の主軸で成長ドライバにも位置付けるシクロオレフィンポリマーおよびＣＯＰ製光学フィルムなどの主原料となるジシクロペンタジエン（ＤＣＰＤ）の生産能力が現行比で最大２割程度向上する。同投資により、汎用品向け主原料であるピペリレンなどの生産量を増やすことなく、ＤＣＰＤの安定確保が可能となる。さらに、これまで未利用であった成分を有効活用することで、ＣＯ２排出量の削減にも寄与する。工事は、２０２６年度下期に着工し、２０２８年９月完工を目指す。
同社水島工場は、ＧＰＩ法を活用したＣ５留分総合利用工場として１９６９年に操業を開始した同社の基幹工場となる。ＧＰＩ法により生み出されるイソプレン、ＤＣＰＤ、ピペリレン、２ーブチンといった有効成分を合成ゴムやＣＯＰ、石油樹脂、合成香料などの様々な製品へと展開している。
ＤＣＰＤは、ＣＯＰのほかＲＩＭ配合液などの高収益製品の原料として使用されており、特にＣＯＰおよびＣＯＰ製光学フィルムは、中期経営計画ＳＴＡＧＥ30において、着実に拡大を見込む成長ドライバに設定され、今後の需要拡大が見込まれている。
こうした拡大基調に対する原料調達について様々な検討を重ねてきた結果、これまで未利用であった成分を活用する技術の確立により、Ｃ５留分を追加調達することなく、安定的な原料確保が可能となった。
また、今回の方法は、Ｃ５留分からの抽出に比べ、ＣＯ２排出削減効果が見込まれ、カーボンニュートラルにも寄与する。
同社は、ＳＴＡＧＥ30において、「選択と集中」によるポートフォリオの組み換えを推進しており、今回の投資によりＣ５事業のさらなる拡大に加え、競争力強化を図る。同社は今後も市場ニーズを捉え社会の期待に応えるとともに、人々の快適なくらしに貢献していく。
水島工場ＧＰＩプラント外観
