ＡＤＥＫＡは、千葉工場（千葉県袖ケ浦市）で生産している先端フォトレジスト向け光酸発生剤の生産能力を増強する。同材料はＥＵＶ（極端紫外線）をはじめとする半導体の先端リソグラフィ工程で使用される。千葉工場（千葉県袖ケ浦市）の既存建屋内に製造ラインを増設する。投資金額は約10億円。工事着工は２０２７年１月、完工は２０２８年２月、営業運転は２０２８年９月に開始する予定となっている。
半導体は現代の戦略物資として、世界的に投資が活発化しており、市場は２０２６年に１・５兆ドル規模へ前倒しで拡大するなど、急速な成長を続けている。これに伴い、半導体の微細化に不可欠なフォトレジスト市場も拡大しているほか、露光技術の進化やＰＦＡＳフリーなどの環境対応により、材料に求められる性能や品質レベルも一段と高度化している。
同社では、半導体材料事業において、ＡｒＦやＥＵＶなどの超微細加工が求められる先端リソグラフィ領域を重点分野と位置づけ、化学増幅型レジスト（ＣＡＲ）用光酸発生剤や金属酸化物レジスト（ＭＯＲ）用金属化合物の開発、供給体制の強化を進めている。
今回の追加投資は、旺盛な需要が続くＥＵＶリソグラフィ向け光酸発生剤の供給能力を高めるとともに、１ｐｐｂレベルの厳格なメタル管理を維持しながら、生産体制の最適化を図るものです。同時に、２０２６年７月に本格始動した半導体イノベーションセンター（埼玉県久喜市）では、ＥＵＶや高ＮＡ ＥＵＶなどの先端世代で需要拡大が見込まれるＰＡＧモノマー（ポリマーバウンド型）の開発・評価を加速しており、同投資により、将来需要を見据えた供給体制の強化を2年前倒しで実行する。
同社は今後も、先端フォトレジスト向け光酸発生剤とＭＯＲ用金属化合物を両輪に、先端リソグラフィ技術の進化を素財でリードし、半導体材料事業のさらなる拡大を図っていく。
千葉工場の光酸発生剤プラント
